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특허 출헌? 출언? 출연? 출현? 헷갈리는 특허 용어 한 번에 정리!

by 하앤유 특허법률사무소2025.11.04조회수 71

 

특허 출헌? 출언? 출연? 출현? 헷갈리는 특허 용어 한 번에 정리!

 

#특허출원  #특허출헌  #특허용어정리

 

 

 

 

 

 

목차


1. 특허 용어 혼동의 원인과 올바른 개념 정립
1-1. “특허출헌·출언·출연·출현” — 잘못된 검색어가 생긴 이유
1-2. 올바른 용어 ‘특허출원(出願)’의 법적 의미와 정의
1-3. 특허청(지식재산처)·KIPRIS 기준으로 확인하는 공식 용어 표기 방법


2. 특허출원(出願)의 핵심 개념과 절차 이해
2-1. 특허출원이란? — 아이디어를 법적 권리로 전환하는 첫 단계
2-2. 출원 절차 요약 — 명세서 작성 → 전자출원 → 심사청구 흐름
2-3. 선출원주의의 원리 — 출원일이 곧 권리의 기준이 되는 이유


3. 헷갈리기 쉬운 특허 용어 비교 가이드
3-1. 특허출원 vs 특허등록 — ‘신청’과 ‘등록’의 실질적 차이
3-2. 공개·공고·심사청구 — 절차별 시점과 의미 구분하기
3-3. 상표·디자인 출원과의 차이 — 출원 개념의 범위 확장 이해


4. 실무에서 자주 발생하는 용어 오사용 사례
4-1. 명세서·청구항 작성 시 잘못 쓰인 표현의 위험성
4-2. 특허청(지식재산처) 서류 제출 단계에서 발생하는 오탈자 문제
4-3. 오타·표기 오류로 인한 심사 지연·거절 사례 분석


5. 올바른 특허 용어 사용을 위한 실무 가이드라인
5-1. 특허청(지식재산처) 문서·공보에서 쓰는 공식 용어 활용 팁
5-2. 보고서·기술문서·IR자료에 적용할 용어 표준화 방법
5-3. 한글·영문 병행 작성 시 주의해야 할 표기 규칙


6. 하앤유특허법률사무소의 특허 출원 컨설팅·검토 서비스
6-1. 초보 발명가를 위한 용어·절차 안내 중심 컨설팅 사례
6-2. 명세서·출원서 용어 일관성 검토 및 사전 교정 프로세스
6-3. 특허청(지식재산처) 제출 전 서류 검수와 법적 리스크 예방 지원

 

 

 

 

 

 


 

 

 

 

 

 

 

1. 특허 용어 혼동의 원인과 올바른 개념 정립

 

 

 

 


1-1. “특허출헌·출언·출연·출현” — 잘못된 검색어가 생긴 이유

 

온라인에서 ‘특허출헌’, ‘특허출언’, ‘특허출연’, ‘특허출현’ 같은 단어가 자주 등장하는 이유는
‘특허출원(出願)’이라는 올바른 용어의 한자 발음이 낯설기 때문입니다.

 

많은 이용자들이 특허청(지식재산처)이나 KIPRIS(키프리스)에서 정확한 표기를 확인하지 않은 채
자동완성이나 음성입력 결과를 그대로 사용하는 과정에서 잘못된 단어가 퍼졌습니다.

 

하지만 ‘특허출원’은 단순한 철자 문제가 아니라
출원일이 곧 권리 발생의 기준이 되는 법적 개념입니다.
따라서 발명 아이디어 보호를 위해선 올바른 용어 사용이 반드시 필요합니다.

 

 

 


1-2. 올바른 용어 ‘특허출원(出願)’의 법적 의미와 정의

 

‘특허출원’은 발명자가 자신의 아이디어를 법적으로 보호받기 위해 특허청(지식재산처)에 제출하는 행위를 뜻합니다.
이는 「특허법」 제27조에 근거하며, 신규성·진보성·산업상 이용성이 인정되어야
특허청(지식재산처)의 심사를 거쳐 등록이 가능합니다.

 

즉, 단순히 서류를 내는 절차가 아니라
지식재산권을 확보하기 위한 첫 번째 공식 단계입니다.

 

‘선출원주의’ 원칙이 적용되므로
출원일이 빠른 사람이 권리를 갖게 된다는 점도 중요합니다.

 

 

 

 


1-3. 특허청(지식재산처)·KIPRIS 기준으로 확인하는 공식 용어 표기 방법

 

특허청(지식재산처)과 KIPRIS에서는 모든 공식 문서에서 ‘특허출원’만을 표준 용어로 사용합니다.
‘특허출헌’, ‘출언’ 등을 검색해도 자동으로 ‘특허출원’으로 수정되는 이유가 바로 여기에 있습니다.

 

특허 용어는 행정 표준화 규정에 따라 관리되며
국내뿐 아니라 WIPO(세계지식재산기구)에서도 같은 체계를 따릅니다.

 

따라서 공신력 있는 기관이 사용하는 ‘특허출원’ 표기를 기준으로
모든 서류와 보고서를 작성하는 것이
정확한 특허 문서 작성의 출발점입니다.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 


2. 특허출원(出願)의 핵심 개념과 절차 이해

 

 

 


2-1. 특허출원이란? — 아이디어를 법적 권리로 전환하는 첫 단계

 

 

‘특허출원’은 발명자가 자신의 아이디어를 법적으로 보호받기 위해 특허청(지식재산처)에 제출하는 공식 절차입니다.
이는 단순한 신청이 아니라, 권리의 시작점이 되는 법적 행위로 「특허법」 제27조에 명시되어 있습니다.

 

특허출원을 통해 발명자는 기술에 대한 독점적 권리를 주장할 수 있으며,
아이디어를 단순한 구상에서 산업재산권(IP)으로 전환하게 됩니다.

 

즉, ‘특허출헌’, ‘특허출언’, ‘특허출현’이 아닌 정확한 용어 ‘특허출원(出願)’을 이해하는 것이
기술 보호의 첫걸음이 됩니다.

 

 

 


2-2. 출원 절차 요약 — 명세서 작성 → 전자출원 → 심사청구 흐름

 

특허출원 절차는 보통 명세서 작성 → 전자출원(특허로 시스템) → 심사청구 순으로 진행됩니다.

 

명세서는 발명의 핵심 기술을 구체적으로 기재한 문서로,
기술적 구성·효과·도면이 포함되어야 심사 통과 가능성이 높아집니다.

 

출원 후 1년 6개월이 지나면 공개 절차를 거치며,
심사청구 후에는 신규성·진보성 등의 요건이 검토됩니다.
따라서 KIPRIS(키프리스)에서 선행기술을 미리 조사해
출원 전에 대비하는 것이 권리 확보에 매우 중요합니다.

 

 

 


2-3. 선출원주의의 원리 — 출원일이 곧 권리의 기준이 되는 이유

 

한국은 ‘선출원주의(先出願主義)’를 채택하고 있습니다.
이는 동일한 발명이라도 누가 먼저 출원했는가에 따라 권리자가 결정된다는 뜻입니다.

 

출원일은 특허청(지식재산처)에 서류를 제출한 날짜를 기준으로 하며,
이날이 바로 권리 발생의 법적 기준점이 됩니다.

 

따라서 아이디어를 단순히 보관하거나 구두로 약속하는 것만으로는 보호받을 수 없습니다.

 

정확한 명세서 작성과 빠른 출원을 통해
출원일을 확보하는 것이 기술 보호의 핵심 전략입니다.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

3. 헷갈리기 쉬운 특허 용어 비교 가이드

 

 

 


3-1. 특허출원 vs 특허등록 — ‘신청’과 ‘등록’의 실질적 차이

 

‘특허출원’은 발명자가 자신의 아이디어를 특허청(지식재산처)에 법적으로 보호해달라 요청하는 절차이며,
‘특허등록’은 심사를 통과해 권리가 실제로 부여된 상태를 말합니다.

 

즉, 출원은 ‘신청’ 단계이고 등록은 ‘인정’ 단계입니다.
출원 후에는 심사청구와 거절사유 해소 절차를 거쳐야 하며,
등록결정이 내려져야 비로소 특허권(배타적 권리)이 발생합니다.

 

따라서 “출헌”, “출언”, “출연”이 아닌 정확한 용어 ‘특허출원’을 구분해 사용하는 것이 중요하며,
특히 KIPRIS(키프리스)나 특허청(지식재산처) 시스템에서 검색 시에도
출원과 등록은 별도의 상태 코드로 관리됩니다.

 

 

 

 

3-2. 공개·공고·심사청구 — 절차별 시점과 의미 구분하기

 

‘공개’는 출원 후 약 1년 6개월이 지나면 발명 내용이 일반에 공개되는 단계입니다.
이 시점부터 다른 사람이 내용을 참고하거나 선행기술로 활용할 수 있게 됩니다.

 

‘공고’는 심사를 통과한 후 등록 예고가 되는 단계로,
이때 제3자는 이의신청을 제기할 수 있습니다.

 

‘심사청구’는 출원인이 특허청(지식재산처) 심사를 요청하는 행위로,
이 절차를 밟지 않으면 출원이 자동 소멸됩니다.
따라서 공개·공고·심사청구의 시점을 명확히 이해해야
출원 관리 일정에서 권리 상실을 예방할 수 있습니다.

 

 

 

 

3-3. 상표·디자인 출원과의 차이 — 출원 개념의 범위 확장 이해

 

‘특허출원’은 기술적 발명을 보호하는 제도이지만,
‘상표출원’은 브랜드명이나 로고를 보호,
‘디자인출원’은 제품의 외형적 형태나 시각적 창작물을 보호합니다.

 

세 제도 모두 ‘출원’이라는 공통 절차를 거치지만,
보호 대상과 심사 기준이 다릅니다.
특허는 기술의 진보성, 상표는 식별력, 디자인은 심미성이 핵심입니다.

 

따라서 자신의 아이디어가 기술인지, 브랜드인지, 디자인인지 구분한 뒤
적절한 권리 형태로 출원해야 IP 포트폴리오 전체의 효율성을 극대화할 수 있습니다.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

4. 실무에서 자주 발생하는 용어 오사용 사례

 

 

 


4-1. 명세서·청구항 작성 시 잘못 쓰인 표현의 위험성

 

특허 명세서와 청구항에서 용어를 잘못 기재하면
발명의 권리범위가 축소되거나 무효 사유로 이어질 수 있습니다.

 

예를 들어, ‘특허출헌’이나 ‘특허출연’처럼 비공식 용어를 사용하거나,
기술적 구성요소의 명칭이 일관되지 않으면 심사관이 발명을 정확히 이해하지 못합니다.

 

명세서 내 용어는 산업통상자원부 고시 기준,
특허청(지식재산처) 심사기준 및 KIPRIS 기술분류 체계를 따르는 것이 바람직합니다.

 

특히 동일 부품을 다른 용어로 혼용하거나,
청구항 문장에서 ‘포함한다’와 ‘구성된다’를 혼동하면
권리 범위가 달라질 수 있으므로 공식 표준 용어를 기반으로 작성해야 합니다.

 

 

 

 

4-2. 특허청(지식재산처) 서류 제출 단계에서 발생하는 오탈자 문제

 

특허출원 절차에서는 전자출원 시스템(특허로)을 통해 서류가 접수되지만,
이 과정에서 한자나 영문 표기 오류가 빈번히 발생합니다.

 

예를 들어, ‘출헌’과 ‘출원’을 혼동하거나
발명자·출원인 이름이 잘못 기입되면
보정명령 또는 심사 지연으로 이어질 수 있습니다.

 

또한 도면 부호나 기술명칭의 오기 역시
심사관 판단에 혼선을 주는 주요 요인입니다.

 

이러한 오류를 줄이기 위해서는
출원 전 ‘전자출원 서식 검증 기능’을 활용하고,
제출 후에는 KIPRIS의 ‘공보 확인 서비스’를 통해
등록된 정보와 일치 여부를 반드시 점검해야 합니다.

 

 

 

 

4-3. 오타·표기 오류로 인한 심사 지연·거절 사례 분석

 

특허청(지식재산처) 심사국 통계에 따르면,
특허 거절사유 중 약 12%가 오기 및 서식 불일치 문제에서 비롯됩니다.

 

대표적으로는 ‘명세서 기재 불비’, ‘청구항 간 불일치’,
‘출원서·요약서 간 용어 불일치’가 반복적으로 지적됩니다.

 

이러한 오탈자는 기술 내용과 무관하게
형식적 거절(FORMAL REJECTION)로 분류되어
심사 절차를 지연시키거나,
보정 시점을 놓치면 출원 자체가 취하될 수도 있습니다.

 

따라서 출원 전 검토 프로세스를 체계화하고,
전문 변리사의 용어 검수·서식 점검을 통해
표기 오류로 인한 불필요한 시간 손실을 예방해야 합니다.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

5. 올바른 특허 용어 사용을 위한 실무 가이드라인

 

 

 

 

5-1. 특허청(지식재산처) 문서·공보에서 쓰는 공식 용어 활용 팁

 

특허청(지식재산처)과 KIPRIS(키프리스)에서 사용하는 용어는
법적 효력을 전제로 한 표준화된 표현이므로,
모든 특허 문서 작성 시 이를 기준으로 삼아야 합니다.

 

예를 들어 ‘특허출원’, ‘등록결정’, ‘공개공보’, ‘심사청구’ 등은
특허법 및 시행령에 따라 정의된 공식 용어입니다.

 

따라서 블로그, 기술자료, 내부 보고서에서도
‘특허출헌’, ‘특허출연’ 같은 비공식 용어 대신
공식 표기 그대로 사용하는 것이 신뢰성을 높이는 핵심 전략입니다.

 

특허청(지식재산처)의 ‘심사기준 매뉴얼’과 ‘출원서식 가이드’를 참고하면
용어 통일과 문서의 전문성을 동시에 확보할 수 있습니다.

 

 

 

 

5-2. 보고서·기술문서·IR자료에 적용할 용어 표준화 방법

 

기업이 작성하는 R&D 보고서나 투자(IR) 자료에서도
특허 관련 용어는 반드시 특허청(지식재산처) 기준 표기 방식을 따라야 합니다.

 

예를 들어, “출헌 완료” 대신 “출원 완료”,
“특허 획득” 대신 “특허 등록”으로 작성해야
투자자나 정부기관이 내용을 검증할 때 혼란을 줄일 수 있습니다.

 

또한 사내 문서에서는 ‘특허 명세서’, ‘청구항’, ‘기술요약서’ 등
용어 사전(Glossary)을 내부적으로 만들어 관리하면
부서 간 커뮤니케이션 오류를 최소화할 수 있습니다.

 

이는 향후 기술이전 계약서나 분쟁 대응 시에도
신뢰성 있는 자료로 인정받는 중요한 기반이 됩니다.

 

 

 

 

5-3. 한글·영문 병행 작성 시 주의해야 할 표기 규칙

 

특허 명세서나 해외 출원을 위한 번역 문서 작성 시에는
한글·영문 간 표기 불일치로 인한 오류를 방지해야 합니다.

 

예를 들어, ‘특허출원’은 영어로 patent application,
‘출원인’은 applicant, ‘청구항’은 claim으로 표현하며,
단어를 축약하거나 문맥에 따라 임의로 변형해서는 안 됩니다.

 

또한 한글 문서에서는 띄어쓰기와 한자 병기를 명확히 해야 하며,
영문에서는 대문자 사용(Patent, Application)을
문서 전체에서 일관되게 유지해야 합니다.

 

이러한 표기 원칙은 국내 특허청(지식재산처)·WIPO·USPTO(미국특허청(지식재산처)) 등
국제 표준에 맞춘 문서로 인정받기 위한 필수 요건입니다.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

6. 하앤유특허법률사무소의 특허 출원 컨설팅·검토 서비스

 

 

 

 

6-1. 초보 발명가를 위한 용어·절차 안내 중심 컨설팅 사례

 

하앤유특허법률사무소는 특허 제도를 처음 접하는 발명가와 스타트업을 위해
기초 용어 해설부터 출원 절차 안내까지 1:1 맞춤형 컨설팅을 제공합니다.

 

많은 개인 발명가가 ‘특허출헌’이나 ‘출연’ 등 비공식 용어를 혼동해
출원 절차를 잘못 이해하거나, 서류를 부정확하게 작성하는 경우가 있습니다.

 

하앤유는 특허청(지식재산처) 공식 문서 체계와 「특허법」 규정을 기준으로
정확한 용어와 서류 형식을 안내해,
출원 초기부터 실질적인 권리 보호가 가능한 방향으로 지원합니다.

 

 

 

 

6-2. 명세서·출원서 용어 일관성 검토 및 사전 교정 프로세스

 

하앤유특허법률사무소는 특허 명세서와 출원서 내 용어를
일관된 표현으로 교정·정비하는 전문 검토 시스템을 운영합니다.

 

발명의 핵심 구성요소나 기술 용어가 문서 내에서 다르게 사용되면
심사 과정에서 해석 혼란이나 거절 사유가 발생할 수 있습니다.

 

이를 예방하기 위해 변리사가 직접 청구항·도면·요약서의 용어 일치 여부를 검토하며,
전자출원 전 단계에서 문서의 형식·기술 표현·표기 오류를 교정합니다.

 

이 과정은 단순 교정이 아니라,
특허 등록 가능성을 높이기 위한 사전 리스크 관리 절차로 작동합니다.

 

 

 

 


6-3. 특허청(지식재산처) 제출 전 서류 검수와 법적 리스크 예방 지원

 

특허출원은 단순히 서류를 제출하는 행정 행위가 아닌,
법적 효력을 발생시키는 절차입니다.

 

하앤유특허법률사무소는 출원 전 단계에서
명세서, 청구항, 서식, 발명자 정보 등을 다단계 검수 프로세스로 점검합니다.
특히 오탈자, 기술분류 코드 오류, 발명자 누락 등
출원 후 수정이 어려운 리스크를 사전에 차단합니다.

 

또한 기업 및 연구소 의뢰인의 경우
R&D 보고서와 출원 문서 간 기술 일치성 검토를 병행하여
심사 지연이나 거절 사유를 최소화합니다.

 

이처럼 하앤유의 특허 출원 컨설팅
‘정확한 용어 + 완성도 높은 서류’권리 확보를 강화하는 실무 중심 서비스입니다.

 

 

 

 

 

 


 

 

 

 

 

 


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