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#특허

특허 사례 '멀티 빌드업 PCB 구조, 미세 회로 패턴 패널, 공초점 변위 센서, 엣지 컴퓨팅 검사 노드' 특허 출원 등록, 특허권 확보 전략

by 하앤유 특허법률사무소2026.02.11조회수 10

안녕하세요.
하앤유특허법률사무소의 하수준 변리사입니다.

 

​하앤유는 여러분의 소중한 아이디어와 발명품을 보호하기 위해 최선을 다하고 있으며,
특허 분야에서 귀하의 권리를 안전하게 지켜드리고 있습니다.

 


기술의 빠른 발전 속에서도 창의적인 발명과 아이디어를 지켜드릴 수 있도록,
하앤유는 전문적인 지식과 경험을 바탕으로 최상의 서비스를 제공해드리고 있습니다.

 

 

 

 

 

 

 

 


 

 

 

목차

 

1. 전자·반도체 공정 특허가 왜 중요할까요
2. 전자·반도체 공정 특허로 보호할 수 있는 기술 범위
3. 전자·반도체 공정 특허 출원은 어떻게 진행될까요
4. 전자·반도체 공정 특허에서 자주 발생하는 실패 사례
5. 등록 이후 권리 활용과 사업 확장 전략
6. 전자·반도체 공정 특허, 전문가와 함께해야 하는 이유

 

 

 

 

 


 

 

전자·반도체 공정 특허 등록사례

 

 

 

 

하앤유특허법률사무소에서 ABF 레이어가 있는 PCB 패널에 대한 레이어 스캐너 센서 장치 특허를 성공적으로 등록하였습니다.

 

 

이번에 등록된 특허는 고다층 반도체 기판 공정에서 핵심이 되는 PCB 패널 검사 기술과 관련된 발명입니다.
멀티 빌드업 PCB 구조를 기반으로, ABF 레이어가 적층된 미세 회로 패턴 패널의 상태를 정밀하게 측정하고 분석하는 기술을 담고 있습니다.

 

해당 기술은 공초점 변위 센서를 활용해 PCB 패널의 레이어 높이와 형상 변화를 비접촉 방식으로 정밀 스캔할 수 있도록 설계되었습니다.
이를 통해 초미세 회로 패턴이 형성된 패널에서도 공정 오차나 결함을 안정적으로 검출할 수 있는 구조를 구현하였습니다.

 

또한 검사 과정에서 수집되는 데이터를 엣지 컴퓨팅 검사 노드에서 실시간으로 처리하도록 구성한 점이 특징입니다.
중앙 서버에 의존하지 않고 현장에서 바로 분석이 가능해, 검사 속도 향상과 공정 효율 개선에 유리한 기술적 효과를 가집니다.

 

이번 특허는 고집적 반도체 기판 제조 공정에서 요구되는 정밀도와 생산성을 동시에 고려한 기술로,
향후 고성능 전자·반도체 패키징 분야에서 폭넓게 활용될 수 있는 기반 기술로 평가됩니다.

 

하앤유특허법률사무소는 전자·반도체 공정과 PCB·패키징 기술 분야에 대한 이해를 바탕으로,
기술의 핵심 구조와 사업적 가치를 정확히 반영한 특허 등록을 지속적으로 이어가고 있습니다.

 

 

 

 

 

 

 

 


 

 

1. 전자·반도체 공정 특허가 왜 중요할까요

 

 

 

 

 

 

 

 

전자·반도체 산업에서 경쟁력을 결정짓는 핵심은 제품 그 자체보다 공정 기술에 있습니다.
같은 설계와 같은 재료를 사용하더라도 어떤 공정을 거쳤는지에 따라 성능, 수율, 원가에서 큰 차이가 발생합니다.

 

전자·반도체 공정 기술은 외부에서 쉽게 확인할 수 없기 때문에, 특허 없이 기술을 보호하기가 매우 어렵습니다.
공정 특허가 없다면 오랜 시간과 비용을 들여 축적한 제조 노하우가 경쟁사에 의해 유사하게 구현되더라도 이를 제재하기 힘듭니다.

 

특허는 단순한 기술 등록이 아니라, 공정 기술의 권리 범위를 법적으로 명확히 고정하는 수단입니다.
전자·반도체 공정 특허를 확보하면 공정 조건, 순서, 제어 방식까지 포함해 경쟁사의 모방을 사전에 차단할 수 있습니다.

 

또한 전자·반도체 산업은 투자, 기술 협력, 해외 거래가 빈번한 분야입니다.
이 과정에서 특허 보유 여부는 기술의 신뢰성과 사업 가치를 판단하는 중요한 기준으로 작용합니다.

 

공정 특허가 잘 정리되어 있으면 단순한 제조 기술을 넘어, 기업의 핵심 자산으로 평가받을 수 있습니다.
특히 글로벌 시장을 염두에 둔 기업이라면 초기 단계부터 공정 특허를 전략적으로 준비하는 것이 필수적입니다.

 

결국 전자·반도체 공정 특허는 기술을 보호하는 것을 넘어, 사업 경쟁력과 시장 주도권을 지키는 기반이 됩니다.

 

 

 

 

 

 

 

 

 


 

 

2. 전자·반도체 공정 특허로 보호할 수 있는 기술 범위

 

 

 

 

전자·반도체 공정 특허는 단순한 제조 장비 하나를 보호하는 데서 그치지 않습니다.
실제 산업 현장에서는 공정의 흐름과 조건, 제어 방식 전체가 핵심 기술로 평가됩니다.
아래와 같은 범위까지 특허로 충분히 보호가 가능합니다.

 

 

 

⑴ 공정 순서 및 제조 흐름 구조
전자·반도체 공정은 각 단계의 순서와 연결 구조 자체가 기술 경쟁력입니다.
어떤 공정을 먼저 수행하고, 이후 어떤 조건으로 다음 단계를 진행하는지에 따라 결과가 크게 달라집니다.
이러한 공정 흐름과 단계 간 연결 구조는 중요한 특허 보호 대상이 됩니다.

 


⑵ 공정 조건 및 파라미터 설정 방식
온도, 압력, 시간, 전압, 가스 조성처럼 공정 조건을 어떻게 설정하고 제어하는지도 기술로 인정됩니다.
단순 수치 나열이 아니라, 조건 설정의 기준과 효과 발생 원리를 함께 정리하면 특허로 보호할 수 있습니다.

 


⑶ 장비와 공정의 결합 구조
장비 자체가 아니라 장비가 공정에서 어떻게 작동하는지가 핵심인 경우도 많습니다.
특정 장비를 어떤 방식으로 활용해 공정을 수행하는지, 그 작동 구조와 제어 흐름까지 보호 범위에 포함됩니다.

 


⑷ 수율 개선 및 결함 저감 공정 기술
불량을 줄이거나 수율을 안정화하기 위한 공정 설계 역시 중요한 특허 대상입니다.
결과가 아닌, 결함을 감지하고 보정하는 과정과 구조를 중심으로 기술을 정리하면 보호가 가능합니다.

 


⑸ 공정 자동화 및 제어 시스템
최근에는 센서, 소프트웨어, 알고리즘이 결합된 공정 제어 기술이 늘어나고 있습니다.
자동 제어 방식, 데이터 처리 구조, 공정 판단 로직까지 함께 설계하면 넓은 권리 범위를 확보할 수 있습니다.

 


⑹ 공정 변형 및 확장 가능 기술
현재 적용 중인 공정뿐 아니라, 조건 변경이나 공정 단순화 같은 변형 구조도 함께 보호할 수 있습니다.
이렇게 설계하면 경쟁사가 공정을 일부 변경하더라도 효과적으로 대응할 수 있습니다.

 

 

 

전자·반도체 공정 특허는 눈에 보이는 결과보다, 그 결과가 만들어지는 구조와 흐름을 보호하는 권리입니다.
기술 범위를 어떻게 정리하느냐에 따라 특허의 실질적인 가치가 결정됩니다.

 

 

 

 

 

 


 

 

3. 전자·반도체 공정 특허 출원은 어떻게 진행될까요

 

 

 

 

 

전자·반도체 공정 특허 출원은 단순히 서류를 접수하는 과정이 아닙니다.
기술의 핵심을 정리하고, 보호 범위를 전략적으로 설계하는 단계별 준비가 필요합니다.
전체 절차를 이해하면 불필요한 지연과 거절 위험을 크게 줄일 수 있습니다.

 

 

 

⑴ 기술 정리 및 출원 방향 설정
가장 먼저 해야 할 일은 공정 기술의 핵심을 정리하는 것입니다.
어떤 공정 단계가 차별점인지, 기존 기술과 무엇이 다른지를 명확히 해야 합니다.
이 단계에서 출원 목적과 사업 방향까지 함께 고려하면 이후 절차가 훨씬 수월해집니다.

 


⑵ 선행기술 조사
기존에 공개된 특허와 기술 자료를 조사해 유사 기술 여부를 확인합니다.
전자·반도체 공정 분야는 선행기술이 많기 때문에 이 과정이 특히 중요합니다.
선행기술 조사를 통해 보호 가능한 포인트를 정확히 짚을 수 있습니다.

 


⑶ 권리 범위 설계
현재 적용 중인 공정만 기준으로 하면 권리 범위가 지나치게 좁아질 수 있습니다.
공정 조건 변화나 향후 확장 가능성까지 고려해 권리 범위를 설계해야 합니다.
이 단계에서 특허의 실질적인 강도가 결정됩니다.

 


⑷ 명세서 및 도면 작성
전자·반도체 공정 특허는 공정 흐름과 작동 원리를 구조적으로 설명해야 합니다.
효과만 나열하는 것이 아니라, 왜 그런 효과가 발생하는지를 기술적으로 풀어야 합니다.
심사관이 이해하기 쉽게 정리하는 것이 등록 가능성을 높이는 핵심입니다.

 


⑸ 출원 및 심사 대응
출원 후에는 지식재산처(구 특허청) 심사를 거치게 됩니다.
이 과정에서 신규성이나 진보성 관련 의견제출통지서가 나올 수 있습니다.
심사 대응 단계에서는 기술 차별성을 논리적으로 설명하며 보정을 진행합니다.

 


⑹ 등록 및 사후 관리
특허 등록이 완료되면 권리 유지와 활용을 위한 관리가 필요합니다.
후속 기술 출원이나 해외 출원 연계를 통해 권리를 확장할 수 있습니다.
이 과정을 통해 특허는 단순한 권리가 아닌 사업 자산으로 자리 잡게 됩니다.

 

 

 

전자·반도체 공정 특허 출원 절차는 처음부터 체계적으로 접근할수록 결과의 차이가 분명하게 나타납니다.
각 단계를 정확히 이해하고 준비하는 것이 안정적인 특허 등록의 출발점입니다.

 

 

 

 

 

 


 

 

4. 전자·반도체 공정 특허에서 자주 발생하는 실패 사례

 

 

 

 

 

전자·반도체 공정 특허는 기술 난이도가 높아 작은 판단 차이로도 결과가 크게 달라집니다.
아래와 같은 실패 사례는 실제 출원 과정에서 매우 자주 발생합니다.

 

 

 

⑴ 공정 결과만 강조하고 구조 설명이 부족한 경우
수율이 개선되었다거나 불량이 줄었다는 결과만 설명하는 경우가 많습니다.
하지만 특허에서는 왜 그런 결과가 나오는지 공정 구조와 원리가 핵심입니다.
구조 설명이 부족하면 신규성이나 진보성 인정이 어렵습니다.

 


⑵ 현재 공정만 기준으로 권리 범위를 좁게 설정한 경우
지금 사용 중인 조건과 장비만 기준으로 작성하면 보호 범위가 제한됩니다.
경쟁사가 조건이나 순서를 조금만 변경해도 회피가 가능해집니다.
변형 가능성까지 고려한 설계가 필요합니다.

 


⑶ 선행기술 조사가 충분하지 않은 경우
전자·반도체 공정 분야는 이미 공개된 기술이 매우 많습니다.
선행기술을 충분히 검토하지 않으면 유사 기술로 판단되어 거절될 가능성이 높아집니다.
사전 조사 단계에서 차별 포인트를 명확히 정리해야 합니다.

 


⑷ 장비 설명에만 치우친 경우
공정 특허임에도 장비 구조 설명에만 집중하는 실수가 자주 발생합니다.
중요한 것은 장비가 아니라, 장비를 활용한 공정 흐름과 제어 방식입니다.
이 연결 구조를 놓치면 공정 특허로서의 가치가 떨어집니다.

 


⑸ 심사 대응을 단순 보정으로 처리한 경우
의견제출통지서가 나오면 형식적인 보정만 진행하는 사례가 많습니다.
이 단계는 기술 논리를 다시 설계해야 하는 중요한 과정입니다.
대응 방식에 따라 등록 여부가 갈릴 수 있습니다.

 


⑹ 해외 출원을 고려하지 않고 작성한 경우
국내 기준으로만 작성하면 해외 진출 시 추가적인 문제가 발생할 수 있습니다.
전자·반도체 산업은 글로벌 시장과 연결된 분야이기 때문에 초기 설계가 중요합니다.

 

 

 

전자·반도체 공정 특허는 작은 실수 하나로도 권리 가치가 크게 달라질 수 있습니다.
실패 사례를 미리 이해하고 준비하는 것이 안정적인 특허 등록의 핵심입니다.

 

 

 

 

 

 


 

 

5. 등록 이후 권리 활용과 사업 확장 전략

 

 

 

 

 

전자·반도체 공정 특허는 등록으로 끝나는 권리가 아닙니다.
등록 이후 어떻게 활용하느냐에 따라 기술의 가치와 사업 확장 가능성이 크게 달라집니다.

 

 

 

⑴ 경쟁사 모방 차단과 시장 방어
등록된 특허는 경쟁사의 유사 공정 적용을 사전에 차단하는 법적 근거가 됩니다.
공정 조건이나 순서를 일부 변경한 기술에도 대응할 수 있어 시장 주도권을 지키는 데 도움이 됩니다.

 


⑵ 기술 협상 및 거래에서의 활용
전자·반도체 산업에서는 기술 협력과 공동 개발이 빈번하게 이루어집니다.
이때 특허는 기술 수준을 객관적으로 증명하는 수단이 되어 협상력을 높여줍니다.

 


⑶ 투자 유치와 기업 가치 제고
공정 특허는 기업의 핵심 자산으로 평가됩니다.
투자 유치 과정에서 기술 안정성과 성장 가능성을 설명하는 중요한 자료로 활용할 수 있습니다.

 


⑷ 라이선스 및 수익 구조 확장
직접 생산하지 않더라도 특허를 통해 기술 사용 계약을 체결할 수 있습니다.
이를 통해 안정적인 로열티 수익 구조를 만들 수 있습니다.

 


⑸ 후속 기술 출원과 포트폴리오 구축
기존 특허를 기반으로 공정 개선이나 응용 기술을 연속 출원하면 권리 범위가 넓어집니다.
이러한 포트폴리오는 경쟁사의 진입을 어렵게 만드는 기술 장벽이 됩니다.

 


⑹ 해외 출원을 통한 글로벌 확장
전자·반도체 산업은 글로벌 시장과 직결된 분야입니다.
주요 국가에 권리를 확보하면 해외 거래와 공급망 진입에서도 유리한 위치를 차지할 수 있습니다.

 

 

 

등록 이후의 전략까지 함께 설계해야 특허는 단순한 권리가 아닌 사업 성장의 도구가 됩니다.
전자·반도체 공정 특허는 활용 단계에서 진정한 가치를 발휘합니다.

 

 

 

 

 

 


 

 

6. 전자·반도체 공정 특허, 전문가와 함께해야 하는 이유

 

 

 

 

 

전자·반도체 공정 특허는 기술 이해와 특허 전략이 동시에 요구되는 분야입니다.
공정 하나의 차이가 성능과 수율을 좌우하기 때문에, 기술의 핵심을 정확히 짚는 것이 무엇보다 중요합니다.

 

이 분야의 기술은 외형으로 드러나지 않는 경우가 많아 설명 방식이 결과를 크게 좌우합니다.
단순한 효과 설명이 아니라, 공정 구조와 작동 원리를 특허 기준에 맞게 풀어내야 보호가 가능합니다.

 

혼자 준비하는 경우 현재 적용 중인 공정만 기준으로 작성되는 일이 많습니다.
이렇게 되면 공정을 조금만 바꾼 유사 기술에 대응하기 어려워질 수 있습니다.

 

또한 전자·반도체 공정 특허는 심사 과정이 까다로운 편입니다.
지식재산처(구 특허청)에서는 신규성과 진보성을 엄격하게 판단하기 때문에,
의견제출통지서 대응이 등록 성패를 좌우하는 경우도 많습니다.

 

전문가와 함께하면 기술을 단순히 정리하는 데서 그치지 않습니다.
출원 전 단계부터 등록 가능성과 권리 범위를 기준으로 방향을 설정하고, 이후 사업 활용까지 고려한 전략을 세울 수 있습니다.

 

특히 전자·반도체 산업은 해외 거래와 기술 협력이 빈번한 분야입니다.
초기부터 해외 출원 가능성을 염두에 둔 설계가 이루어져야 장기적인 기술 보호가 가능합니다.

 

하앤유특허법률사무소는 전자·반도체 공정 기술의 특성과 산업 구조를 깊이 이해하고,
출원부터 심사 대응, 해외 출원 연계까지 체계적으로 지원하고 있습니다.
복잡한 기술도 고객의 사업 방향에 맞춰 명확하게 정리하고, 신속하고 정확한 절차 진행을 통해 불필요한 부담을 최소화합니다.

 

 

 

전자·반도체 공정 특허를 안정적인 권리이자 사업 자산으로 만들고 싶다면,
하앤유특허법률사무소와 함께 전략적으로 준비하시는 것이 가장 현명한 선택입니다.

 

 

 

 

 

 


 

 

 

 

 

하앤유는 고객님의 지식재산권 보호와 권리 강화를 위해 항상 최선을 다하고 있습니다.

 

특허, 상표, 디자인 등 다양한 분야에서 쌓아온 경험과 노하우로, 신속하고 정확한 서비스를 제공해드리고자 합니다.

 

고객님의 아이디어와 발명품이 성공적으로 보호받을 수 있도록, 믿을 수 있는 파트너가 되어 드리겠습니다.

 

문의사항이 있으시면 언제든지 편하게 연락 주시기 바랍니다.

 

여러분의 소중한 권리를 지키는 데 최선을 다하겠습니다.

 

감사합니다.

 

 

 

 

 


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