제조 자동화와 디지털 전환이 빨라지면서
공정개선·장치 구조·품질관리 기술이 경쟁력을 좌우합니다.
이때 연구개발과 동시에 특허 전략을 세우면
개발 속도를 해치지 않으면서 시장 선점을 이룹니다.
‘기계·제조’는 CNC 가공장비, 로봇 자동화, 컨베이어·피더,
금형·프레스·사출성형, 비전검사와 공정제어까지 아우르는 폭넓은 분야입니다.
산업적 가치는 명확합니다.
사이클 타임 단축, 불량률 감소, OEE 개선이
직접적인 비용 절감과 매출 증대로 이어집니다.
따라서 기계·제조 특허 출원은 선택이 아니라 기본 전략입니다.
KIPRIS로 선행기술조사를 선행하고,
데이터 기반 진보성을 설계하며,
도면 정합성과 청구항 전략을 초기에 고도화하세요.
국내 출원 이후 PCT 국제출원 옵션까지 염두에 두면
기술 확장과 라이선스 수익화의 길이 열립니다.
■ 목차
① 기계·제조 특허 출원의 의미와 정의
② 왜 기계·제조 특허 출원이 필요한가 – 기술 보호·경쟁력·수익·법적 보호
③ 기계·제조 특허 등록 요건 – 신규성·진보성·산업상 이용 가능성
④ 기계·제조 특허 출원 절차와 등록 방법 – 선행기술 조사·명세서·청구항
⑤ 기계·제조 특허 심사 과정 – 의견서·보정서·등록 결정
⑥ 기계·제조 특허권 효력과 보호 범위 – 무단 사용 금지·라이선스
⑦ FAQ – 비용·기간·선행기술 조사·실험데이터
⑧ 실제 '기계·제조' 특허 사례 – 출원 전략과 시사점
⑨ 하앤유 특허사무소와 함께하는 맞춤형 특허 전략
기계·제조 특허는 장치 구조, 공정 단계, 제어 로직 같은 기술적 사상을
청구항으로 특정해 권리화하는 제도입니다.
도면과 실시예로 재현 가능성을 보여주고,
선행기술조사로 기존 기술과의 차이를 정리합니다.
핵심은 청구항 문언과 도면 정합성입니다.
구조 요소, 공정 파라미터, 센서·액추에이터 구성,
치환 가능한 부품과 제어 로직 변형을
독립항·종속항으로 층위 있게 설계합니다.
이렇게 하면 회피설계를 줄이고 권리 범위를 안정화할 수 있습니다.
또한 사이클 타임·불량률·OEE 같은 성능 데이터를
진보성 주장에 연결해 설득력을 높입니다.
KIPRIS 분류를 활용해 근접 문헌을 맵핑하고,
차별 포인트를 청구항 요소로 치환하는 과정이 중요합니다.
결국 기술과 사업을 동시에 보호하는
산업적 보호 장치입니다.
출원 후에는 분할·정정을 통해 포트폴리오를 확장합니다.
■ 기술보호
연구개발과 동시에 출원하면 공개·유출 리스크를 줄이고
선점효과를 확보할 수 있습니다.
KIPRIS와 IPC/FI 분류로 근접 문헌을 광범위하게 탐색하고,
차별 포인트를 청구항 요소로 치환합니다.
도면에는 구성 관계와 동작 흐름을 명확히 표기하고,
실시예에는 공정 조건·허용 오차·대체 가능한 부품을 기재합니다.
이렇게 하면 리버스엔지니어링과 회피설계를 어렵게 만들고,
국내 등록 후 12개월 내 PCT 국제출원으로
해외 권리 범위까지 확장할 수 있습니다.
또한 분할출원으로 핵심·주변 기술을 층위화하고,
표준화 가능 영역은 조기 회피불능 구성을 확보합니다.
등록 이후에는 침해 모니터링과 경고장·가처분 절차를
체크리스트로 운영해 권리 행사를 체계화합니다.
영업비밀과 병행 관리하여 도면·소스·공정 파라미터의 공개 범위를 전략적으로 조절하세요.
■ 경쟁력강화
제조 라인의 사이클 타임 단축, 불량률 감소, OEE 개선 같은
운영 지표를 특허 장벽과 연결하면 차별성이 명확해집니다.
자동화 설비·비전검사·공정제어 알고리즘을 모듈별로 권리화하면
입찰·납품에서 기술 우위를 증명하기 쉽습니다.
종속항으로 대체 가능한 센서·액추에이터·공정 파라미터를 포섭해
경쟁사의 모듈 교체 전략을 차단합니다.
또한 특허맵으로 경쟁 포트폴리오의 공백 영역을 찾아 선점하고,
표준·인증 요구사항과 연동해 채택 가능성을 높입니다.
현장 KPI를 정량 데이터로 축적해
진보성·효과의 인과관계를 강화하세요.
라인 업그레이드 로드맵과 연계해 분할·추가 출원 일정을 미리 설계하면,
세대 교체 시점마다 권리 장벽을 갱신할 수 있어
장기적인 경쟁우위를 유지하는 데 유리합니다.
공급망 파트너에 대한 기술 라이선스 패키지도 함께 준비하면 협상력이 배가됩니다.
■ 수익창출
장치 판매와 분리된 공정 라이선스로
로열티 수익원을 만들 수 있습니다.
검사 알고리즘·제어 소프트웨어·하드웨어 모듈을 패키지로 묶어
계약 단가와 갱신 조건을 유리하게 가져가세요.
성능 곡선, Cp/Cpk, 에너지 소비, MTBF/MTTR 등
정량 지표를 제시하면 가치평가와 기술 실사 대응이 쉬워집니다.
또한 크로스 라이선스 구조를 설계해
부품·소재·장비 업체와의 거래에서 원가를 상쇄하고,
해외 진출 시에는 현지 파트너에게 실시권을 설정해
초기 CAPEX 부담을 줄일 수 있습니다.
표준·규격 채택 가능 영역은 SEP 후보로 관리하며,
포트폴리오 단위로 묶음 라이선스를 제안하면
협상 레버리지가 커집니다.
분쟁 가능성이 있는 핵심 청구항에는 사용량 기반 로열티 조항을 두고,
감사 권한·리포팅 주기를 명확히 해 현금흐름 예측력을 높이세요.
■ 법적보호
특허권자는 청구항 범위 내 배타적 실시권을 가집니다.
무단 사용에는 경고장→가처분→본안 소송으로 단계 대응이 가능합니다.
현장에서의 라인 중단 리스크를 고려해
합의·로열티 협상을 병행하는 하이브리드 전략이 효과적입니다.
거절이유 통지에는 의견서·보정서로 구성과 효과의 인과를 명확히 제시하고,
등록 후에는 모니터링·시제품 확보·포렌식 보전을 통해
침해 입증 자료를 축적합니다.
또한 분쟁 대비 클레임 차트·등가론 분석을 사전에 준비하고,
해외 권리 연계 시 관할·준거법·손해배상 산식까지 설계해야 합니다.
표준필수특허 가능성이 있다면 FRAND 의무와 충돌하지 않도록
협상 기록·오퍼 내역을 보존하고,
경고 전 확인서·의견서를 통해 고의 침해 논점을 관리하세요.
마지막으로, 특허 만료·연속 출원 일정과 연계해
권리 공백 기간을 최소화하면 분쟁 억지력이 유지됩니다.
■ 신규성
출원 전 공개된 동일·실질동일 기술이 없어야 합니다.
논문·전시·설명회 공개도 자기공지가 될 수 있어요.
KIPRIS·IPC/FI로 선행기술조사를 넓게 하고,
구성요소·공정조건·제어 로직의 차이점을 선명하게 정리하세요.
명세서·도면에 그 차이를 구현 단계로 드러내면,
심사 시 “이미 알려진 기술”과의 구분이 명확해집니다.
출원 전 비밀유지(NDA)·보안 관리도 필수입니다.
■ 진보성
통상의 기술자가 쉽게 도출할 수 없는 비자명성이 필요합니다.
효과는 정량 데이터로 입증하세요.
사이클 타임, 불량률, OEE, 에너지 소비, Cp/Cpk 등 지표를 제시하고,
“구성 X → 작용 Y → 효과 Z”의 인과를 연결합니다.
결합 용이성 지적에 대비해 대체 구성과 한계도 기술합니다.
청구항은 핵심 원리를 넓게,
종속항으로 변형·치환 범위를 포섭해 방어폭을 키우세요.
■ 산업적이용가능성
반복 실시 가능한 구체적 수단이 명세서에 있어야 합니다.
가공 조건, 공정 파라미터, 센서·액추에이터 설정,
제어 알고리즘 흐름을 재현 가능 수준으로 기재하세요.
실시예에는 장비 사양·공차·시험 프로토콜을 포함하고,
도면은 부품 관계와 동작 순서를 오해 없이 보여야 합니다.
현장 적용 가능성이 드러나면,
심사에서 실용성 논점이 매끄럽게 통과됩니다.
■ 선행기술조사
KIPRIS·특허분류(IPC/FI)로 근접 문헌을 폭넓게 수집합니다.
핵심 과제와 차별 포인트를 표로 정리하고,
구성·공정·제어 단계별로 회피 가능성을 점검하세요.
경쟁사 특허맵을 함께 보고 공백 영역을 찾으면,
청구항 전략의 중심축이 명확해집니다.
필요 시 해외 데이터베이스까지 확장해
향후 PCT·해외출원을 염두에 둡니다.
■ 명세서 및 청구항작성
독립항은 원리를 넓게,
종속항은 대체 부품·파라미터·알고리즘 변형을 포섭합니다.
도면은 기호 일관성과 단계 흐름이 핵심이고,
실시예에는 정량 지표와 시험 조건을 명확히 기재하세요.
추가 보정 없이도 방어 가능한 구조를 목표로 하되,
분할·정정 여지를 남겨 포트폴리오 확장을 설계합니다.
■ 특허 출원서 작성
발명의 명칭·요약서·도면·서류 목록을 점검하고,
우선권 주장 여부와 심사청구 시점을 결정합니다.
비용·기간을 고려해 전자출원으로 진행하고,
메타데이터(출원인·발명자)를 정확히 맞춥니다.
해외 확장 가능성이 크면 영문 용어 정합성을 확보해
향후 번역·PCT 단계의 리스크를 줄이세요.
■ 방식심사 및 출원공개
방식심사에서는 서류 형식·수수료·도면 요건을 봅니다.
기호 불일치·누락 페이지는 보정 명령 대상입니다.
출원 후 18개월 경과 시 출원공개가 이뤄지므로,
영업비밀과 공개 범위를 사전에 구분하세요.
필요 시 조기공개·조기심사를 활용해
시장 타이밍에 맞춘 전략을 세울 수 있습니다.
■ 실체심사 및 보정대응
거절이유 통지의 근거 문헌·문단·도면을 정확히 특정합니다.
의견서로 차별 논리를 전개하고,
보정서는 신규 거절이 생기지 않게 범위를 정교화하세요.
진보성 논점에는 성능 데이터·효과 그래프가 유효합니다.
필요 시 인터뷰 심사·우선심사로
심사 지연을 단축합니다.
■ 등록결정및등록료납부
등록결정 후 기한 내 등록료를 납부하면 권리 발생입니다.
즉시 침해 모니터링과 클레임 차트 정리를 시작하고,
분할·추가 출원으로 주변 기술을 포섭하세요.
해외 출원 로드맵(PCT→국내단계)을 실행해
공급망 전반의 권리 장벽을 완성합니다.
유지연차료·포트폴리오 점검도 정기 프로세스로 운영하세요.
■ 형식심사
서류 형식·수수료·도면 요건을 점검합니다.
도면 기호 불일치, 누락 페이지, 전자서명 문제는
즉시 보정 명령으로 이어질 수 있습니다.
출원서·요약서·명세서·도면 간 정합성을 최우선으로 확인하고,
우선권 서류·위임장 등 부속 문서의 기한을 관리하세요.
조기심사·우선심사 대상이라면 사유와 증빙을 준비해
심사 착수까지의 시간을 단축합니다.
■ 실체심사
신규성·진보성·명세서 기재요건을 검토합니다.
거절이유 통지서의 근거 문헌, 문단, 도면 번호를 특정하고,
구성요소 대비표로 차별 포인트를 선명하게 제시하세요.
사이클 타임, 불량률, OEE, 에너지 소비 등
정량 데이터와 효과 곡선은 진보성 설득의 핵심입니다.
실시 가능성은 공정 조건·허용 오차·제어 로직로 보강하고,
필요 시 심사관 인터뷰로 논점을 집중합니다.
■ 보정 및 등록결정
보정서는 청구항 범위를 정교화하되
신규 거절 사유를 유발하지 않게 작성합니다.
의견서에는 “구성 X→작용 Y→효과 Z”의 인과를 명확히 하고,
대체 구성·한계 조건을 종속항으로 포섭하세요.
거절 극복 후 등록결정이 내려지면
기한 내 등록료 납부로 권리가 발생합니다.
즉시 침해 모니터링, 클레임 차트 정리,
분할·추가 출원 로드맵으로 포트폴리오를 확장하세요.
■ 독점적 권리
특허권자는 청구항 범위 내에서
제조·사용·양도·대여·수입을 배타적으로 행사합니다.
권리 범위는 청구항 문언이 기준이므로
도면·실시예와의 정합 해석이 중요합니다.
공정·장치 모듈을 넓게 포섭한 종속항은
회피설계를 어렵게 만들고,
공급망 전반에서 기술 장벽 역할을 수행합니다.
■ 무단사용 금지
무단 실시에는 경고장→가처분→본안으로 대응합니다.
라인 중단 리스크를 고려해
기술검토 회의·실시료 제안 등 협상 채널을 병행하세요.
입증을 위해 샘플 확보, 사용 이력, 로그·계측 데이터 등
증거 관리 체계를 상시 운용합니다.
등가론까지 대비한 클레임 차트는
분쟁에서 레버리지가 됩니다.
■ 수익창출
장치 판매와 별개로 공정 라이선스만으로도
지속적인 로열티 수익을 만들 수 있습니다.
검사 알고리즘·제어 소프트웨어·하드웨어 모듈을
패키지 특허로 묶으면 협상력이 커집니다.
사용량 기준 로열티, 최소 보장액,
감사 권한·리포팅 주기를 계약에 반영해
현금흐름의 예측 가능성을 높이세요.
■ 보호기간
특허권 보호기간은 원칙적으로 출원일로부터 20년입니다.
핵심 기술은 개량점이 나올 때마다
분할·추가 출원으로 권리 공백을 최소화하세요.
표준·인증 채택 가능 영역은
장기 로드맵을 전제로 포트폴리오를 층위화하고,
연차료 관리·유지 대상 선별로
포트폴리오 효율성을 최적화합니다.
출처: freepik
A. 가장 안전한 시점은 공개·판매·시연 전에,
핵심 아이디어가 재현 가능한 수준으로 정리된 직후입니다.
논문 투고, 전시·발표, 견적 제안, PoC 납품, 표준회의 등
대외 공개 일정이 보이면 그 이전에 선출원하세요.
NDA는 보조수단일 뿐 완전한 방파제는 아닙니다.
A. 명세서 품질을 위해 다음 자료를 준비해 주세요.
① 기술설명서: 발명의 과제·해결수단·효과, 핵심 구성요소/공정 단계/제어 로직.
② 도면: 구조도·단면도·공정 흐름도·블록/타이밍 다이어그램.
③ 실시예·시험데이터: 사이클타임, 불량률, OEE, 에너지 소비 등 정량치와 시험 조건.
④ 변형예: 치환 가능한 부품, 파라미터 범위, 한계 조건.
⑤ 선행기술 조사 요약(KIPRIS)과 차별 포인트 표.
⑥ 행정서류: 발명자·출원인 정보, 우선권 서류, 위임장.
※ 공개 위험이 큰 레시피·소스는 영업비밀 부속문서로 분리해 관리합니다.
A. 가장 흔한 거절은 신규성·진보성입니다.
근접 문헌을 결합하면 통상의 기술자가 용이하다고 보는 경우가 많습니다.
다음은 기재불비/실시불가입니다.
명세서에 공정 조건·허용 오차·제어 로직이 부족하거나,
도면과의 정합성이 깨진 사례가 잦습니다.
요지변경 보정·불명확한 청구항도 빈번합니다.
기능적 표현 남용, 범위 과다 확장은 위험합니다.
대응은 구성 대비표 + 성능 데이터로 인과를 입증하고,
보정은 신규 거절 유발 없이 범위 정교화,
종속항으로 변형예를 포섭하며 면담·우선심사를 병행합니다.
A. 등록이 완료되면 청구항 범위 내에서
발명의 제조·사용·양도·대여·수입을
배타적으로 할 권리를 보장받습니다.
제3자의 무단 실시에는 침해금지·폐기 청구,
손해배상(지연손해금 포함), 가처분 등
집행 수단을 행사할 수 있습니다.
필요 시 증거보전·감정신청, 세관 통관 차단도 활용합니다.
또한 실시권 설정·라이선스 계약,
양도·담보 설정을 통해 수익화가 가능합니다.
권리기간은 원칙적으로 출원일로부터 20년이며,
분할·추가출원로 포트폴리오 방어력을 확장할 수 있습니다.
등록 후에는 정기 모니터링·경고장으로
분쟁을 예방·관리합니다.
A. 비용·기간은 난이도, 청구항/도면 수, 해외 확장 여부에 따라 달라집니다.
일정은 보통 이렇습니다.
선행조사 1~3주 → 명세서·도면 2~4주 → 출원.
출원 후 18개월에 공개가 되고,
심사청구~1차 의견통지까지 6~12개월이 일반적입니다.
보정 왕복이 있으면 전체 1.5~3년 소요.
우선심사를 쓰면 수개월 단축이 가능합니다.
비용은 홈페이지에 별도로 서술되어 있습니다.
도면·번역·우선권 서류 등 부대비용이 추가될 수 있습니다.
심사청구료·등록료·연차료는 특허청 수수료 + 대행비 구조이며,
해외(PCT/개별국) 출원은 별도 예산이 필요합니다.
프로젝트 범위를 주시면 일정과 견적을 구체화해 드리겠습니다.
출처: freepik
METHOD FOR MANUFACTURING HIGH MANGANESE GALVANIZED STEEL STEET HAVING EXCELLENT COATABILITY AND ULTRA HIGH STRENGTH AND MANGANESE GALVANIZED STEEL STEET PRODUCED BY THE SAME
출원인 포스코홀딩스 주식회사
본 발명은 우수한 도금성과 초고강도를 갖는 고망간 용융아연도금강판의 제조방법 및 이에 의해 제조된 용융아연도금강판에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시형태는 중량%로, C: 0.3~1%, Mn: 8~25%, Si: 0.1~3%, Al: 0.01~8%, Cr: 0.1~2%, Ti: 0.01~0.2%, B: 0.0005~0.01%, Ni: 0.01~2%, Sn: 0.06~0.2%, 잔부 Fe 및 기타 불가피한 불순물을 포함하는 열연강판을 30~60%의 압하율로 냉간압연하여 냉연강판을 얻는 단계; 상기 냉연강판을 이슬점 온도가 -30~-80℃이고, 온도가 450~650℃인 조건으로 가열하는 단계; 상기 가열된 강판을 450~500℃으로 냉각 또는 유지하는 단계; 및 상기 냉각 또는 유지된 강판을 0.13~0.25중량%의 Al을 포함하고, 온도가 450~500℃인 용융아연도금욕에 침지하여 용융아연도금을 행하는 단계를 포함하는 고망간 용융아연도금강판 및 이에 의해 제조된 용융아연도금강판의 제조방법을 제공한다.
Method of producing ethylene vinyl acetate copolymer resin and ethylene vinyl acetate copolymer resin produced by the same
출원인 한화토탈에너지스 주식회사
본 발명은 에틸렌비닐아세테이트 공중합체 (이하, EVA) 수지의 제조방법 및 그 제조방법으로 제조된 수지에 관한 것으로, 보다 상세하게는 적어도 2개 이상의 반응기로 구성된 관형반응기에서 일단 반응기에만 한정적으로 에틸렌 및 비닐아세테이트 단량체를 투입하고, 퍼옥사이드 개시제를 첨가한 후, 170 ~ 300 ℃에서 2000 ~ 3000 kg/cm2의 압력하에 2 ~ 20분 동안 중합시키는 단계를 포함하는 발포 및 전선용 EVA 수지의 제조방법 및 그 방법에 의하여 제조된 EVA수지에 관한 것이다. 본 발명의 EVA수지 제조방법에 의하면 가교제에 의한 가교 밀도가 높고, 가교 속도가 빠른 발포 및 전선용 수지를 용이하게 제공할 수 있다.
SEMICONDUCTOR DEVICE WITH HAVE DEEP TRENCH WITHOUT CRITICAL DIMENSION DIFFERENCE BETWEEN TOP AND BOTTOM AREA AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
출원인 삼성전자주식회사
본 발명은 반도체 기판 상의 절연막 트렌치 측벽을 유기소재 고분자 물질과 H-F기가 반응하여 식각액을 생성 선택 식각하여, 윗면과 바닥면의 CD가 차이가 없는 깊은 트렌치를 만드는 방법을 제공한다. 반도체 기판상에 산화막을 형성하고, 상기 산화막에 깊은 트렌치를 형성하고, 상기 트렌치 소정의 깊이에 유기소재 고분자 물질을 채우고, 상기 트렌치 안의 유기소재 고분자 물질에 H-F기가 있는 식각 가스를 공급하여 유기소재 고분자 물질 성분과 H-F기가 반응하여 부산물로 물을 만들어 축적된 H-F기가 습식 식각액이 되어 선택적으로 트렌치 측벽을 식각하고, 상기 유기소재 고분자 물질을 제거하면 반도체 기판 상에 윗면과 바닥면의 CD가 일정한 산화막 트렌치가 형성된다.
Apparatus of depositing thin film of oganic light emitting diode and method of manufacturing light emitting diode
출원인 엘지디스플레이 주식회사
본 발명은 일방향을 따라 연장 배치된 다수의 공정챔버와; 상기 다수의 공정챔버를 사이에 두고 양측에 각각 구성되며, 상기 일방향을 따라 이동하는 기판반송로봇 및 마스크반송로봇을 포함하는 유기발광소자 박막 증착 장치를 제공한다.
Organic Electro-Luminescence Display
출원인 삼성에스디아이 주식회사
본 발명은 외부광으로 인한 콘트라스트 저하를 방지하고, 휘도를 향상시킬 수 있도록 한 유기 전계 발광 표시장치에 관한 것이다.
본 발명의 유기 전계 발광 표시장치는 하부기판과 상부기판으로 광취출이 형성되며, 상기 유기 전계 발광 표시장치의 적어도 일면에는 광취출을 제어하는 광제어막이 형성된다. 이러한 구성에 의하여, 외부광이 강한 실외에서 콘트라스트가 향상된 영상을 표시할 수 있다. 또한, 화소부의 다른 면에는 광제어막을 부착하지 않음으로써 고휘도의 영상을 표시하여 실내에서 유용하게 이용될 수 있다.
TUBULAR BACK BEAM FOR VEHICLE
출원인 현대자동차주식회사
본 발명은 차량용 튜블러 백빔에 관한 것으로, 정면 충돌 및 오프셋 충돌 등 모든 상황의 충돌에 대해 효과적으로 대응 할 수 있게 됨에 따라 우수한 충돌성능을 확보할 수 있게 되고,
이를 통해 차체의 손상을 최대한 줄일 수 있음과 더불어 보행자 및 승객의 부상을 최대한 경감시킬 수 있도록
하앤유특허사무소는 기계·제조 분야 경험을 바탕으로
기술의 차별점을 쉽게 정리합니다.
도면·데이터 등 표현 방식은
보유 자료 범위 안에서 함께 고민합니다.
선행 기술 흐름을 확인하고,
거절 가능성이 높은 포인트를 미리 짚어
출원 전 준비 순서를 체크리스트로 안내합니다.
기업·연구원·개인 등 상황별로 전달 방식만 달리해
복잡한 용어는 줄이고 핵심만 분명히 합니다.
지금 단계에서 필요한 것은
“핵심 기능이 무엇인가”,
“어떤 수치로 설명할 수 있는가” 두 가지면 충분합니다.
부담 없이 가벼운 상담부터 시작하세요.
카카오톡 문의
☎️ 02) 6956-0870
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